진공응용장비
VACUUM TUBE FURNACE EQUIPMENT

VST-80

본 시스템은 고성능 진공 챔버와 터보 분자 펌프를 결합하여 설계된 고진공 배기 시스템입니다. 반도체, 연구 개발, 박막 증착 등 초고진공(UHV) 환경이 요구되는 정밀 공정에 최적화되어 있습니다.

주요 용도 및 특징

반도체 공정: 진공 코팅, 식각, 박막 증착 (PVD, CVD)
연구 개발: 재료 과학, 표면 분석, 초고진공 실험
산업 응용: 진공 열처리, 건조, 분석 장비
시스템 확장성: 모듈형 설계 덕분에 다양한 크기의 챔버와 손쉽게 조합하여 사용할 수 있습니다. 사용자의 특정 요구사항에 맞춰 부속품을 추가하거나 변경하여 맞춤형 시스템 구성이 가능합니다.
GSP펌프와 챔버 그리고 Pfeiffer HiPace 80 터보펌프의 조합은 최대 7.5×10−8 torr 수준의 초고진공을 안정적으로 달성합니다. 이는 챔버 내 잔류 가스 분자의 수를 극적으로 줄여 고품질의 공정 결과를 보장합니다.
청정 진공: 오일-프리 하이브리드 베어링 기술이 적용되어 펌프 오일로 인한 챔버 내부 오염 가능성을 원천적으로 차단합니다. 이로써 매우 깨끗한 진공 환경을 유지하며, 미세 공정의 수율을 높이는 데 기여합니다

처음 접하는 사람도 쉽게 사용할 수 있는 인터페이스

쉽게 편리한 레시피 적용 화면

연구 및 생산 공정을 정확히 저장하는 데이터 베이스

보다 직관적이고 편리한 PLC I/O화면

주요 구성품

구성품 모델명 특징 및 사양
저진공펌프 GSP3, GSP5, GSP10 – 최종 압력: 0.01 mbar (1 Pa) 미만
– 수분 배출 용량: 136~200 g/h
– 저소음 및 저진동 설계
고진공 펌프 Pfeiffer HiPace 80 – 펌핑 속도 (N₂): 67 L/s
– 최종 압력 (Ultimate Pressure): 10⁻⁷ mbar 미만
– 베어링: 하이브리드 베어링 (내구성 및 저진동)
제어 시스템 통합 제어 유닛 – 터보펌프, 저진공 펌프, 챔버 압력 등 통합 제어 및 모니터링
– 사용자 친화적인 제어판 및 LCD 디스플레이
주요 부속품 밸브, 진공 게이지, 배관, 연결부품 – 밸브: 수동 또는 자동 앵글 밸브
– 진공 게이지: Pirani 게이지 (대기~저진공), Cold cathode or 이온 게이지 (고진공)
– 배관: 고진공용 스테인리스 스틸 벨로우즈 배관
– 연결부품: ISO-KF, ISO-K, CF 등 국제 표준 플랜지