주요 용도 및 특징
진공 및 분위기 제어 (Vacuum & Atmosphere Control)
- 진공도 (Ultimate Vacuum): 5×10−3 Torr (무부하, 베이킹, 퍼지 조건)
고진공 환경을 통해 산소 등 불순물을 최소화하여 소재의 순도를 높입니다.
- 사용 가스: 고진공 (High Vacuum)
기타 불활성 가스: 질소 (N2), 아르곤 (Ar) 등
고진공 환경을 통해 산소 등 불순물을 최소화하여 소재의 순도를 높입니다.
기타 불활성 가스: 질소 (N2), 아르곤 (Ar) 등
가열 시스템 (Heating System)
- 가열 방식: 외부 가열식
챔버 외부에 히터가 위치하여 챔버 내부의 청정도를 유지합니다.
- 최고 가열 온도: 800℃
챔버 외부에 히터가 위치하여 챔버 내부의 청정도를 유지합니다.
3. 제어 시스템
- 온도 측정: R-type, C-type 열전대를 사용하여 온도를 정밀하게 측정합니다.
- 온도 제어: 각1존(Zone) PID 제어 시스템을 적용하여 안정적이고 정밀한 온도 제어가 가능합니다.
Heating Zone | Furnace size |
---|---|
warkingZone : 600 x 600L x 400H(mm) 2set | |
히터존 수량 및 범위 : 360도 | |
제어용 T/C : 1ea | |
모니터링 T/C : 1 point | |
Heating Element 재질 : Khantal Wire Heater | |
Heating Element Type : 노출형 Khantal Wire | |
Furnace 양끝단 Safety Cover : 화상 Safety | |
Insulator:Ceramic Board & Fiber | |
Process temp | Max.processtemp.: < 900℃ |
NormalprocessTemp.: <800℃ | |
온도 정확도 : ±1℃ | |
온도 균일도 : ±10℃ |
유틸리티 및 안전 시스템 (Utilities & Safety)
분위기 제어 유닛 (Atmosphere Control Unit)
유량 제어 (Flow Control): MFC (Mass Flow Controller)
MFC 및 믹스 탱크 (Mix Tank) 장착으로 정밀한 가스 유량 및 혼합비 제어.
진공 배기 시스템 (Evacuation System)
- 로터리 펌프 (Rotary Pump): 2,000L/min 1대
- 부스터 펌프(M.B.P): 10,000L/min 1대
제어 시스템 (System Control)
- 제어 방식: PLC (Programmable Logic Controller) 제어 및 터치패널 인터페이스
모든 공정 조건 (온도, 압력, 시간, 분위기)을 PLC를 통해 자동화된 시퀀스로 제어.
- 운영 인터페이스 (HMI):
터치패널: 실시간 상태 모니터링 및 제어, 공정 레시피 저장 및 호출 기능.
PC 제어: 장거리 모니터링 및 데이터 로깅 기능 (옵션).
데이터 로깅: 온도-시간, 압력-시간 데이터를 실시간으로 기록하여 공정 분석 및 최적화에 활용.
모든 공정 조건 (온도, 압력, 시간, 분위기)을 PLC를 통해 자동화된 시퀀스로 제어.
터치패널: 실시간 상태 모니터링 및 제어, 공정 레시피 저장 및 호출 기능.
PC 제어: 장거리 모니터링 및 데이터 로깅 기능 (옵션).
데이터 로깅: 온도-시간, 압력-시간 데이터를 실시간으로 기록하여 공정 분석 및 최적화에 활용.